Composition for silicon-containing-film formation, silicon-containing film, pattern formation method, and polysiloxane

WO2018159356 Art A1 7. September 2018

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018159356
Aktenzeichen: EP18760338
Anmeldetag: 19. Februar 2018
Veröffentlichung: 7. September 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C09D183/08C08G77/28C09D7/40G03F7/11G03F7/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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