Dry etching agent, dry etching method and method for producing semiconductor device
WO2018159368
Art A1
7. September 2018
Anmelder: Central Glass Company, Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018159368
- Aktenzeichen
- EP18761430
- Anmeldetag
- 20. Februar 2018
- Veröffentlichung
- 7. September 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/3065
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Central Glass Company, Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Central Glass
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Flachglas, Spezialglas sowie Fluorchemikalien für Industrie und Bauwesen herstellt.
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