Radiation-sensitive resin composition, resist pattern forming method, acid diffusion control agent, carboxylate salt and carboxylic acid

WO2018159560 Art A1 7. September 2018

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018159560
Aktenzeichen: EP18761011
Anmeldetag: 26. Februar 2018
Veröffentlichung: 7. September 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C59/11C07C59/115C07C59/13C07C62/04C07C62/06G03F7/038G03F7/039G03F7/20C07C381/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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