Porous film sealing method and porous film sealing material

WO2018159783 Art A1 7. September 2018

Anmelder: L'AIR LIQUIDE, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude, Tokyo Electron Limited 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018159783
Aktenzeichen: EP18760260
Anmeldetag: 1. März 2018
Veröffentlichung: 7. September 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065H01L21/312H01L21/768H01L23/532

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: L'AIR LIQUIDE, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude
Tokyo Electron Limited
Land: 🇫🇷 Frankreich

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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