Reflective mask blank, reflective mask and production method therefor, and semiconductor device production method

WO2018159785 Art A1 7. September 2018

Anmelder: HOYA Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018159785
Aktenzeichen: EP18761806
Anmeldetag: 1. März 2018
Veröffentlichung: 7. September 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/24

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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