Substrate pretreatment compositions for nanoimprint lithography

WO2018160344 Art A1 7. September 2018

Anmelder: Canon Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018160344
Aktenzeichen: EP18760389
Anmeldetag: 12. Februar 2018
Veröffentlichung: 7. September 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00G03F7/20G03F7/16H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Canon Kabushiki Kaisha
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Canon

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, der Kameras, Objektive, Drucker, Kopiergeräte sowie optische und medizinische Bildgebungstechnik entwickelt und herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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