Epitaxial wafer reverse surface inspecting method, epitaxial wafer reverse surface inspecting device, epitaxial growth device lift pin management method, and method of manufacturing epitaxial wafer
WO2018163850
Art A1
13. September 2018
Anmelder: SUMCO Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018163850
- Aktenzeichen
- EP18763025
- Anmeldetag
- 22. Februar 2018
- Veröffentlichung
- 13. September 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01N21/956H01L21/66
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SUMCO Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Sumco
Sumco ist ein japanischer Hersteller von Siliziumwafern für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich entsprechend auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie- und Fertigungstechnik. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
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