Pattern formation method, method for manufacturing processing substrate, optical component, and quartz mold replica, imprint pretreatment coating material, and set of said coating material and imprint resist

WO2018163995 Art A1 13. September 2018

Anmelder: Canon Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018163995
Aktenzeichen: EP18764186
Anmeldetag: 2. März 2018
Veröffentlichung: 13. September 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027B29C59/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Canon Kabushiki Kaisha
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Canon

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, der Kameras, Objektive, Drucker, Kopiergeräte sowie optische und medizinische Bildgebungstechnik entwickelt und herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik

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