Photosensitive element, semiconductor device, and method for forming resist pattern

WO2018164233 Art A1 13. September 2018

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018164233
Aktenzeichen: EP18763626
Anmeldetag: 8. März 2018
Veröffentlichung: 13. September 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038B32B27/04G03F7/004G03F7/075G03F7/20H05K1/03H05K3/28H05K3/46

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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