Composition for forming resist underlayer film, resist underlayer film, method for producing same, and method for producing patterned substrate

WO2018164267 Art A1 13. September 2018

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018164267
Aktenzeichen: EP18763180
Anmeldetag: 9. März 2018
Veröffentlichung: 13. September 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C08G8/20G03F7/20H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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