Euv cleaning systems and methods thereof for an extreme ultraviolet light source

WO2018164819 Art A1 13. September 2018

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018164819
Aktenzeichen: EP18764492
Anmeldetag: 15. Februar 2018
Veröffentlichung: 13. September 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00C23C16/00H01L21/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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