Methods of determining stress in a substrate, control system for controlling a lithographic process, lithographic apparatus and computer program product

WO2018166717 Art A1 20. September 2018

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018166717
Aktenzeichen: EP18705570
Anmeldetag: 7. Februar 2018
Veröffentlichung: 20. September 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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