Verfahren und Vorrichtung zur Thermischen Behandlung eines Substrates

WO2018166955 Art A1 20. September 2018

Anmelder: Aixtron SE 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018166955
Aktenzeichen: EP18711871
Anmeldetag: 12. März 2018
Veröffentlichung: 20. September 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/54C23C16/44C23C16/46H01L21/67

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Aixtron SE
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Aixtron

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

303 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von