Active light sensitive or radiation sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for producing electronic device

WO2018168252 Art A1 20. September 2018

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018168252
Aktenzeichen: EP18768612
Anmeldetag: 5. Februar 2018
Veröffentlichung: 20. September 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C09K3/00G03F7/038G03F7/039G03F7/20C07C309/07C07C309/17C07C381/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik Organische Chemie

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