Active light sensitive or radiation sensitive resin composition, resist film, pattern forming method and method for producing electronic device

WO2018168258 Art A1 20. September 2018

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018168258
Aktenzeichen: EP18767893
Anmeldetag: 6. Februar 2018
Veröffentlichung: 20. September 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F212/08G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von