Active-light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern formation method, and method for manufacturing electronic device

WO2018168260 Art A1 20. September 2018

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018168260
Aktenzeichen: EP18767025
Anmeldetag: 6. Februar 2018
Veröffentlichung: 20. September 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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