Radiation sensitive resin composition, patterned film, method for producing same, patterned substrate, cell culture device, microchannel device, and method for producing clumps of cells

WO2018168309 Art A1 20. September 2018

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018168309
Aktenzeichen: EP18767491
Anmeldetag: 15. Februar 2018
Veröffentlichung: 20. September 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038C08F12/26C08F20/34C08F20/60C09K3/00C12M3/00G03F7/20C08G59/68

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Pharma & Biotechnologie

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