Lithographic system, euv radiation source, lithographic scanning apparatus and control system

WO2018172012 Art A1 27. September 2018

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018172012
Aktenzeichen: EP18709282
Anmeldetag: 22. Februar 2018
Veröffentlichung: 27. September 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H05G2/00G01J1/42

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von