WO2018172211

WO2018172211 Art A1 27. September 2018

Anmelder: Aixtron SE 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018172211
Aktenzeichen: EP18712551
Anmeldetag: 16. März 2018
Veröffentlichung: 27. September 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/12C23C14/24C23C14/56

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Aixtron SE
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Aixtron

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

303 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von