Charged particle beam apparatus, and method of adjusting charged particle beam apparatus

WO2018173241 Art A1 27. September 2018

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018173241
Aktenzeichen: EP17901589
Anmeldetag: 24. März 2017
Veröffentlichung: 27. September 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/10G01N23/203G01N23/225H01J37/04H01J37/21H01J37/22H01J37/29

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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