Stage cleaning method, stage cleaning member, method for producing stage cleaning member, and inspection system

WO2018173532 Art A1 27. September 2018

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018173532
Aktenzeichen: EP18771873
Anmeldetag: 8. Februar 2018
Veröffentlichung: 27. September 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304H01L21/66H01L21/683

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von