Washing solution for substrates for semiconductor devices, method for washing substrate for semiconductor devices, method for producing substrate for semiconductor devices, and substrate for semiconductor devices
WO2018174092
Art A1
27. September 2018
Anmelder: Mitsubishi Chemical Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018174092
- Aktenzeichen
- EP18770549
- Anmeldetag
- 20. März 2018
- Veröffentlichung
- 27. September 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304C11D7/26C11D7/32C11D17/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Chemical Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, Teil der Mitsubishi-Chemical-Gruppe. Das Unternehmen entwickelt Grund- und Spezialchemikalien, Kunststoffe, Materialien für Elektronik und Energiespeicher sowie Pharma- und Life-Science-Produkte.
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