Plating treatment method, plating treated device, and memory medium

WO2018174146 Art A1 27. September 2018

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018174146
Aktenzeichen: EP18772244
Anmeldetag: 22. März 2018
Veröffentlichung: 27. September 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C23C18/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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