Method for manufacturing tunneling field-effect transistor and method for enhancing driving current of tunneling field-effect transistor through ultra-low power pre-heat treatment
WO2018174377
Art A1
27. September 2018
Anmelder: Korea Advanced Institute of Science and Technology 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018174377
- Aktenzeichen
- EP17901755
- Anmeldetag
- 11. Dezember 2017
- Veröffentlichung
- 27. September 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L29/66H01L29/06H01L29/16H01L51/00H01L29/739
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Korea Advanced Institute of Science and Technology
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
KAIST
Südkoreanische technische Universität und Forschungsinstitution mit Fokus auf Ingenieurwissenschaften, Naturwissenschaften und Technologieentwicklung, unter anderem in Robotik und Elektronik.
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