Method and device for measuring reflection surface profile

WO2018174392 Art A1 27. September 2018

Anmelder: Korea Research Institute of Standards and Science 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018174392
Aktenzeichen: EP18770474
Anmeldetag: 10. Januar 2018
Veröffentlichung: 27. September 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/45G01N21/55

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Korea Research Institute of Standards and Science
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Korea Research Institute of Standards and Science

Der Anmelder ist ein südkoreanisches staatliches Forschungsinstitut für Metrologie mit Sitz in Daejeon, bekannt als KRISS. Das Patentportfolio konzentriert sich stark auf Mess-, Prüf- und Zeitmesstechnik, ergänzt durch Halbleiterbauelemente, Software und Medizintechnik. Anmeldungen laufen seit 2002 durchgehend fort.

452 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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