Metrology system for an extreme ultraviolet light source
WO2018175023
Art A1
27. September 2018
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018175023
- Aktenzeichen
- EP18771325
- Anmeldetag
- 15. Februar 2018
- Veröffentlichung
- 27. September 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01N21/55G01N21/21H05G2/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Vertreten von
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