Hybrid lithography system and hybrid lithography method
WO2018176762
Art A1
4. Oktober 2018
Anmelder: SVG Optronics, Co., Ltd., Soochow University 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018176762
- Aktenzeichen
- EP17902779
- Anmeldetag
- 22. September 2017
- Veröffentlichung
- 4. Oktober 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- SVG Optronics, Co., Ltd.
Soochow University - Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Soochow University
Soochow University ist eine staatliche Universität in Suzhou, China, mit breitem Fächerspektrum einschließlich Materialwissenschaft und Chemie.
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