Apparatus, substrate handler, patterning device handler, damping system and method of manufacturing a damping system

WO2018177668 Art A1 4. Oktober 2018

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018177668
Aktenzeichen: EP18708957
Anmeldetag: 28. Februar 2018
Veröffentlichung: 4. Oktober 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20F16F7/104

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Maschinenelemente & Fluidtechnik Optik & Fototechnik

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