Segmented Sputtering Target

WO2018179553 Art A1 4. Oktober 2018

Anmelder: Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018179553
Aktenzeichen: EP17903123
Anmeldetag: 27. Oktober 2017
Veröffentlichung: 4. Oktober 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsui Mining & Smelting

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Nichteisenmetallen sowie der Herstellung von Materialien für die Elektronikindustrie.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von