Sputtering target, sputtering target production method, amorphous film, amorphous film production method, crystalline film, and crystalline film production method

WO2018179595 Art A1 4. Oktober 2018

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018179595
Aktenzeichen: EP17903773
Anmeldetag: 4. Dezember 2017
Veröffentlichung: 4. Oktober 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C04B35/01C04B35/64C23C14/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von