Substrate processing device, substrate processing method, and program recording medium

WO2018180018 Art A1 4. Oktober 2018

Anmelder: SCREEN Holdings Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2018180018
Aktenzeichen
EP18775930
Anmeldetag
20. Februar 2018
Veröffentlichung
4. Oktober 2018
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/304H01L21/683
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
SCREEN Holdings Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 SCREEN Holdings

Japanischer Technologiekonzern. SCREEN Holdings stellt Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie her, insbesondere Wafer-Reinigungs- und Beschichtungssysteme, sowie Druck- und Bildverarbeitungstechnik.

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