Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device

WO2018180255 Art A1 4. Oktober 2018

Anmelder: Rohm Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2018180255
Aktenzeichen
EP18775942
Anmeldetag
5. März 2018
Veröffentlichung
4. Oktober 2018
Rechtsraum
WO
IPC
H01L25/07H01L23/48H01L23/50H01L25/18
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Rohm Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Rohm

Japanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kyoto, spezialisiert auf integrierte Schaltkreise, diskrete Halbleiterbauelemente und Leistungshalbleiter (unter anderem Siliziumkarbid-Bauteile).

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