Chemically amplified resist material and method for forming resist pattern

WO2018180308 Art A1 4. Oktober 2018

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018180308
Aktenzeichen: EP18775193
Anmeldetag: 7. März 2018
Veröffentlichung: 4. Oktober 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C08F220/18G03F7/039G03F7/20G03F7/38

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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