Substrate fixture and method for producing semiconductor device by using same
WO2018180734
Art A1
4. Oktober 2018
Anmelder: Toray Engineering Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018180734
- Aktenzeichen
- EP18777951
- Anmeldetag
- 20. März 2018
- Veröffentlichung
- 4. Oktober 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/56B41F15/08B41F15/26H01L21/683
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Toray Engineering Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Toray Engineering
Toray Engineering ist eine japanische Tochtergesellschaft des Toray-Konzerns und stellt Fertigungsanlagen für Halbleiter- und Displayproduktion her. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Verfahrens- und Trenntechnik, ergänzt um Elektronik. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2025.
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