Substrate fixture and method for producing semiconductor device by using same

WO2018180734 Art A1 4. Oktober 2018

Anmelder: Toray Engineering Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2018180734
Aktenzeichen
EP18777951
Anmeldetag
20. März 2018
Veröffentlichung
4. Oktober 2018
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/56B41F15/08B41F15/26H01L21/683
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Toray Engineering Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Toray Engineering

Toray Engineering ist eine japanische Tochtergesellschaft des Toray-Konzerns und stellt Fertigungsanlagen für Halbleiter- und Displayproduktion her. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Verfahrens- und Trenntechnik, ergänzt um Elektronik. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2025.

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