Phase shift mask blank, phase shift mask and manufacturing method for phase shift mask

WO2018181891 Art A1 4. Oktober 2018

Anmelder: Toppan Printing Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018181891
Aktenzeichen: EP18776026
Anmeldetag: 30. März 2018
Veröffentlichung: 4. Oktober 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/32G03F1/58G03F1/72H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Toppan Printing Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Toppan Printing

Japanischer Konzern für Druck- und Verpackungstechnologien mit Sitz in Tokio, seit 1900 tätig. Produziert zudem Displays, Halbleitermasken und Sicherheitsdrucke.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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