Pattern calculation apparatus, pattern calculation method, mask, exposure apparatus, device production method, computer program, and recording medium

WO2018181985 Art A1 4. Oktober 2018

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018181985
Aktenzeichen: EP18777086
Anmeldetag: 30. März 2018
Veröffentlichung: 4. Oktober 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/70G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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