Composition for forming silicon-containing resist underlayer film having carbonyl structure

WO2018181989 Art A1 4. Oktober 2018

Anmelder: Nissan Chemical Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018181989
Aktenzeichen: EP18777320
Anmeldetag: 30. März 2018
Veröffentlichung: 4. Oktober 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C08G77/14C08G77/22G03F7/20H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von