Anti-Reflection Coating

WO2018184793 Art A1 11. Oktober 2018

Anmelder: ASML Holding N.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018184793
Aktenzeichen: EP18712130
Anmeldetag: 13. März 2018
Veröffentlichung: 11. Oktober 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B1/11

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Holding N.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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