Method for cleaning a vacuum chamber, apparatus for vacuum processing of a substrate, and system for the manufacture of devices having organic materials

WO2018184949 Art A1 11. Oktober 2018

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018184949
Aktenzeichen: EP18712629
Anmeldetag: 28. März 2018
Veröffentlichung: 11. Oktober 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/04B08B7/00C23C14/12C23C16/44

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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