Coating film state analysis device and film thickness measurement device

WO2018185891 Art A1 11. Oktober 2018

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018185891
Aktenzeichen: EP17904638
Anmeldetag: 5. April 2017
Veröffentlichung: 11. Oktober 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G01B21/08B05C11/00G01B11/02G01N21/27

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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