Ion source and ion implanter

WO2018185987 Art A1 11. Oktober 2018

Anmelder: ULVAC, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018185987
Aktenzeichen: EP17904492
Anmeldetag: 27. Dezember 2017
Veröffentlichung: 11. Oktober 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01J27/02H01J37/08H01J37/317H01L21/265

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ULVAC, Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 ULVAC

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Chigasaki, spezialisiert auf Vakuumtechnik sowie Anlagen für die Halbleiter- und Displayfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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