Mask blank, method for producing transfer mask, and method for producing semiconductor device

WO2018186320 Art A1 11. Oktober 2018

Anmelder: Hoya Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018186320
Aktenzeichen: EP18781332
Anmeldetag: 2. April 2018
Veröffentlichung: 11. Oktober 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/80G03F1/00H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hoya Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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