Iridium precursors for ald and cvd thin film deposition and uses thereof

WO2018187547 Art A2 11. Oktober 2018

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018187547
Aktenzeichen: EP18781055
Anmeldetag: 5. April 2018
Veröffentlichung: 11. Oktober 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/22C23C16/455C07F15/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Organische Chemie

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