Wastewater treatment device, partition, method for manufacturing wastewater treatment device, and method for changing region in wastewater treatment device
WO2018190006
Art A1
18. Oktober 2018
Anmelder: Kabushiki Kaisha Toshiba, Inc., Toshiba Infrastructure Systems & Solutions Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018190006
- Aktenzeichen
- EP18785040
- Anmeldetag
- 23. Februar 2018
- Veröffentlichung
- 18. Oktober 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C02F3/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Kabushiki Kaisha Toshiba, Inc.
Toshiba Infrastructure Systems & Solutions Corporation - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Toshiba
Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.
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