Synthetic quartz glass substrate polishing agent, production method therefor, and synthetic quartz glass substrate polishing method

WO2018190077 Art A1 18. Oktober 2018

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018190077
Aktenzeichen: EP18783718
Anmeldetag: 19. März 2018
Veröffentlichung: 18. Oktober 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C09K3/14B24B37/00C03C19/00C09G1/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von