Pseudo speckle pattern generation device, pseudo speckle pattern generation method, observation device, and observation method
WO2018190111
Art A1
18. Oktober 2018
Anmelder: Hamamatsu Photonics K.K. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018190111
- Aktenzeichen
- EP18784429
- Anmeldetag
- 26. März 2018
- Veröffentlichung
- 18. Oktober 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G02B27/48G02B21/06G02F1/13
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hamamatsu Photonics K.K.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hamamatsu Photonics
Japanisches Unternehmen für Photonik mit Sitz in Hamamatsu, spezialisiert auf Photodetektoren, Bildsensoren, Laser und optische Messtechnik für Wissenschaft und Industrie.
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