Pseudo speckle pattern generation device, pseudo speckle pattern generation method, observation device, and observation method

WO2018190112 Art A1 18. Oktober 2018

Anmelder: Hamamatsu Photonics K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018190112
Aktenzeichen: EP18784327
Anmeldetag: 26. März 2018
Veröffentlichung: 18. Oktober 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G02B27/48G02B21/06G02F1/13

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Hamamatsu Photonics K.K.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hamamatsu Photonics

Japanisches Unternehmen für Photonik mit Sitz in Hamamatsu, spezialisiert auf Photodetektoren, Bildsensoren, Laser und optische Messtechnik für Wissenschaft und Industrie.

1.968 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von