Semiconductor Substrate Cleaning Composition

WO2018190278 Art A1 18. Oktober 2018

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018190278
Aktenzeichen: EP18783923
Anmeldetag: 6. April 2018
Veröffentlichung: 18. Oktober 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304C11D7/22C11D7/26C11D7/50

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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