Surface Wave Plasma Processing Equipment

WO2018192064 Art A1 25. Oktober 2018

Anmelder: Beijing NAURA Microelectronics Equipment Co., Ltd. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2018192064
Aktenzeichen
EP17906726
Anmeldetag
6. Juni 2017
Veröffentlichung
25. Oktober 2018
Rechtsraum
WO
IPC
H05H1/46
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Beijing NAURA Microelectronics Equipment Co., Ltd.
Land
🇨🇳 China
🇨🇳 Beijing NAURA Microelectronics Equipment

Beijing NAURA Microelectronics Equipment ist ein chinesischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, mit weiteren Anmeldungen in Elektronik und Prozesssteuerung. Anmeldungen reichen von 2013 bis in die Gegenwart.

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