Temporal wavelength modulated metrology system, metrology method and lithographic apparatus
WO2018192723
Art A1
25. Oktober 2018
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018192723
- Aktenzeichen
- EP18713162
- Anmeldetag
- 16. März 2018
- Veröffentlichung
- 25. Oktober 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F9/00G03F7/20G01N21/47G01N21/956
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
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